鹽霧試驗機噴霧裝置的結構分布

作者：鹽霧試驗機 發(fā)布時間：2020-10-12 10:05

　　鹽霧試驗機噴霧裝置包括下列部分：

　　噴霧器氣動閥門：空氣壓縮應根據(jù)過濾裝置，以去油清潔;隨后進到配有純凈水的飽和狀態(tài)塔濕化，其溫度應高鹽霧試驗機內(nèi)實驗溫度。后根據(jù)減壓閥進到噴霧機，工作壓力應操縱在70kPa~175kPa范疇內(nèi)。

 

　　噴霧系統(tǒng)：由噴霧機、食鹽水糟和隔板構成。鹽霧試驗機能用一個或好幾個?？烧{(diào)隔板能避免鹽霧立即噴涌到試件上。噴霧機和隔板置放的部位對鹽霧分布均勻有影響。

 

　　食鹽水糟：為確保勻稱噴霧器，需有保持一定液位儀的設備。調(diào)節(jié)噴霧器工作壓力、飽和狀態(tài)塔水的溫度和隔板部位，使鹽霧試驗機箱里耐腐蝕地基沉降量和搜集速率合乎鹽霧地基沉降的速率，經(jīng)24小時噴霧器后，每80cm2總面積上為1~2ml/h;Lv化鈉濃度值為40g/L±5G/L;pH值的范疇是：中性化鹽霧測試為6.5~7.2，甲酸鹽霧測試為3.1~3.3，銅加快甲酸鹽霧測試為3.1~3.3的要求。